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光學鍍膜應用——鏡頭鍍膜

發布時間：

2021-09-15

在上世紀70年代以前，鏡頭鍍膜方法大多以化學反應為主。這種方法必須嚴格的控制化學溶液的濃度和架橋劑的組合，進行反應的時間和條件等。由于，僅能小量批次生產，所獲得的質量良莠不齊。

　　一、化學鍍膜法和物理鍍膜法

　　比較常用的加工法：一為浸鍍法，另一則為噴鍍法。浸鍍法是根據欲配置膜的性質制備含有成分的溶液，然后將玻璃加熱到一定溫度，放入配置好的化學溶液里，拿出，烘干。

　　浸鍍法是唯yi可以同時制作雙面膜的方法。不過，后來的一些鏡片設計要求，不需要雙面膜。因此，必須將另一面清洗掉，增加了成本和環保的負擔。

　　噴鍍法則是把配置好的膜溶液裝在噴槍上，噴在玻璃表面，并烘干和定型。玻璃載體可以是移動或旋轉，以增加膜的均勻性?？慑冸p面或單面。以此方法延生的還有一種甩膠法。將溶液滴至鏡片ZX，利用鏡片高速旋轉的離心力，將溶液均勻的“拋”在表面上。以現在的觀點來看，化學鍍膜的好處，在于其設備投資低，因此它仍然是鍍有機膜的一種常用且成本低廉的方法。

　　化學鍍膜法具有價格低，操作容易等優點，但也有相對污染較大，無法鍍多層膜的缺點。新一代的鍍膜技術改用物理方式，以真空蒸鍍、離子鍍等多種不同的形式進行。

　　物理鍍膜的過程是在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質(膜材)部分離化，在工作氣體離子或被蒸發物質的離子轟擊作用下，把蒸發物或其反應物沉淀積在被鍍基片表面的過程。物理鍍膜的強度和均勻性普遍高于化學鍍膜，而且Z重要的是物理鍍膜可以進行多層鍍膜，而化學鍍膜受限于其工作原理基本只能實現單層鍍膜。

　　二、尼康的納米結晶涂層鍍膜

　　進入21世紀，CCD和CMOS逐漸替代了膠片，半導體成像性質與化學顆粒完全是兩回事，因此，人們對鏡頭鍍膜的要求也發生了變化，因為感光原件本身也會反射光線，所以更加需要避免鬼影和眩光。

　　與一直以來鍍膜依靠反射光干涉的原理不同，納米結晶涂層是依靠納米級別的微小結晶粒子與間隙中的空氣相互作用，降低折射率并使其變得更加穩定。折射率下降了，反射光也就隨之減弱。對于大于入射角的光線來說這是一項具有革命性意義的鍍膜技術，使得鏡頭鍍膜技術邁進了一個新時代。

　　以往就算鏡頭采用高性能的多層鍍膜，也會有肉眼可以看到的微量反射，但是如果采用納米結晶涂層，那反射就微乎其微，肉眼幾乎辨識不出?？匆幌屡c以前的鍍膜進行比較的照片，其不同之處就一目了然了。從左開始依次是未鍍膜、多層鍍膜(尼康超級鍍膜)和納米結晶涂層。

　　奇妙的是，納米結晶涂層看起來像是只加了一片玻璃，但實際上這其中包括了11層濾色片一樣薄的玻璃。這樣驚人的鮮明度，你怎么也想不到是通過11層玻璃實現的吧。由于它，造成數碼相機影像模糊的很大原因——由反射產生的眩光，就得到了極大限度的YZ。這薄薄的納米結晶涂層真是功不可沒。